光刻 機的工作原理主要 基於光 學投影技 術，它是光刻工 藝中至 關重要的 設 備， 用於 將光掩膜上的 圖案精 確地 轉移到 矽片上的光刻 膠中。具 體 過程如下：
光源 與聚焦：光刻 機使用特殊 設 計的 鏡 頭系 統 將光源聚焦，形成高精度的光 線束。
投影 與曝光： 這些光 線束被投射到 塗有光刻 膠的 矽片上，光刻 膠在曝光 過程中 發生 變化。
顯影：曝光 後的光刻 膠通 過 顯影 過程，形成 與光掩膜上相同的 線路 圖案。
圖案 轉移：最 終，通 過刻 蝕等 後 續工 藝， 將光刻 膠上的 圖案 轉移到 矽片 襯底上。
為了 實 現更高的 解析度和更精 確的 圖案 轉移，光刻 機 採用了多 項 關 鍵技 術。一套完整的光刻 機系 統 包括曝光系 統、物 鏡系 統、 對準系 統、 測量系 統、 傳 輸系 統、 控制系 統和 工作檯系 統等，涉及光 學、 機械、 電子、 電路、自 動化、物理、化 學、 測控等多 個基 礎 學科或 專 業。高端光刻 機的 製造和研 發需要全球多 個 頂尖企 業的 協作， 產 業 鏈 複雜， 代表了精密 儀器的最高水平。